중국, 액침 DUV 노광장비 343대 확보

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중국 반도체 업체들이 2012년부터 2026년 초까지 액침형 심자외선(ArFi DUV) 노광장비 343대를 확보했다는 조사 결과가 나왔다. 워싱턴 소재 연구기관 기술·국가전략센터(CTS)는 이 가운데 상당수가 극자외선(EUV) 장비 없이도 멀티패터닝을 거쳐 7나노급 반도체를 생산하는 데 쓰일 수 있다고 분석했다.¹

CTS에 따르면 중국 내 다국적 기업의 팹을 제외한 중국 로직·메모리 업체가 들여온 장비 가운데 270대는 ASML의 Twinscan NXT:1980i다. 이 장비는 해상도 38나노미터, 장비 간 오버레이 2.5나노미터 사양을 갖췄다. 이보다 상위 기종인 NXT:2050i와 NXT:2000i도 각각 22대와 6대가 있는 것으로 조사됐다. CTS는 기존에 구형 공정용으로 도입한 장비도 비용을 감수하면 7나노급 공정으로 전환 배치할 수 있다는 점을 현행 수출통제의 빈틈으로 지목했다.

네덜란드는 2023년 9월 NXT:2000i 이상 장비에 허가제를 도입했고, 2024년 9월에는 NXT:1980i까지 통제를 넓혔다. 다만 개별 수출은 승인될 수 있다. CTS는 중국 업체들이 NXT:1980i를 2024년 약 90대, 2025년 89대 사들이며 2년간 130억달러 이상을 지출했다고 추산했다. 같은 기간 중국은 ASML 시스템 매출의 출하 목적지 기준 각각 41%, 33%를 차지했으나, 이 비중은 2026년 1분기 19%, 2분기 14%로 낮아졌다.

다만 톰스하드웨어는 CTS의 연도별 구매 추산을 ASML 공시만으로 독립 검증할 수 없다고 짚었다. 7나노급 생산에 활용할 수 있다고 분류된 첨단 액침 DUV 장비 296대 가운데 실제 가동 중인 수량도 확인되지 않았다. CTS는 모든 액침 DUV의 중국 수출을 막고 첨단 팹에 설치된 장비의 부품·유지보수까지 제한하자고 제안했다.

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